金融界2024年4月9日消息，據國家知識產權局公告，華為技術有限公司申請一項名為“測量方法和測量系統“，公開號CN117848668A，申請日期為2022年9月。
專利摘要顯示，本申請實施例提供了一種測量方法和測量系統，該方法包括：獲取待測鏡片第一高度和第二高度，根據第一高度和第二高度分別確定第一光學部分的傾斜角度和第二光學部分的傾斜角度；再根據光學部分的非球面頂點曲率中心與傾斜角度確定光學部分的頂點，最終根據第一光學部分的軸線與第二光學部分的頂點確定待測鏡片的面間偏心距離。
該測量方法和測量系統能夠同時測量待測鏡片第一高度與第二高度，進而得到光學部分的傾斜角度，不需要在測量過程中翻轉待測鏡片，更便于獲得待測鏡片的面間偏心距離。該方法能夠提高測量的效率，避免了翻轉待測鏡片可能導致的影響測量精度的問題。
關鍵詞:華為 測量 瀏覽量：1047
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