圖4：使用8種處理流中的2種，以比較不同基帶濾波器對解調器性能的影響。
在本例中，使用兩種不同的處理設置(每個流各對應一個)對1GHz、8-PSK信號實施RF下變頻和解調。除了下變頻后使用的基帶濾波器，兩種過程基本上是相同的。流1(圖4左側)采用500MHz高斯濾波器；而流2(圖中右側)使用40MHz的根升余弦濾波器。眼圖和狀態轉換圖的并排對比顯示使視覺分析相當容易，而測量參數則提供定量數據。
在狀態轉換圖中比較狀態矢量的離差(dispersion)表明：流2的濾波器產生更緊密的分組。并且比較EVM參數測量值，流1的EVM為5.8％，流2的EVM表現更好，為1.3％。眼圖還顯示了流2的濾波器配置可產生更寬的開口。
結論
在示波器上處理、顯示、測量和分析矢量調制信號的能力是一種強大的工具。使用矢量調制信號時要考慮的關鍵特性包括：用于確定信號矢量幅度精度的星座和狀態轉換圖；用于驗證頻率內容的相位和頻譜視圖；以及用于確認信號完整性的眼圖。具有對RF載波進行解調并提取基底I和Q信號分量的能力，使這些工具相得益彰。
